1. <menuitem id="6k2h2"></menuitem>
          <mark id="6k2h2"><button id="6k2h2"></button></mark>
          <ins id="6k2h2"><video id="6k2h2"></video></ins>

          <menuitem id="6k2h2"><acronym id="6k2h2"></acronym></menuitem>
        2. +
          • MPCVD(金剛石).1.jpg

          MPCVD設備


          所屬分類:

          第三代半導體工藝設備


          概要:

          ? 微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD) , 通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量的金剛石單晶和多晶薄膜


          關鍵詞:

          MPCVD



          MPCVD設備


          上一個

          SiC高溫氧化設備

          在線咨詢

          提交留言
          精品久久久久中文字幕区,国产a√免费观看,2020中文字幕在线,国产极品